ノベルクリスタルテクノロジーは、2021年9月10日～13日に開催された応用物理学会秋季学術講演会(オンライン開催)にて開発成果を発表しました。

場所：オンライン開催
会期（口頭セッション）: 2021年9月10日（金）～13日（月）
講演タイトル:「HfO₂をゲート絶縁膜とする5.0 kV耐圧ノーマリーオフβ-Ga₂O₃ FinFET」
講演タイトル:「β型酸化ガリウム中へのp型ドーパント探索I – Face to Face 配置アニール -」
講演タイトル：「β型酸化ガリウム中へのp型ドーパント探索: Ba」
講演タイトル：「緑色発光を用いたβ-Ga₂O₃結晶の微細構造評価」
HP：https://meeting.jsap.or.jp/