株式会社ノベルクリスタルテクノロジーは、香港で行われるThe 35^th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs にて、アンペア級β型酸化ガリウムヘテロJBSの作製とそのダブルパルス試験について発表します。

■The 35^th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD 2023)
会場：Shaw Auditorium, Hong Kong University of Science and Technology >>公式HP
日程：2023年5月28日（日）~6月1日（木）※現地時間

■発表情報
日時：5月31日（水）16:00~17:30 ※現地時間
Poster Session 2 : P2-24
発表タイトル：Fabrication of Ampere-Class p-Cu₂O/n-β-Ga₂O₃ Trench Heterojunction Barrier Schottky Diodes and Double-Pulse Evaluation

詳細はこちら：ISPSD2023 公式HP