ノベルクリスタルテクノロジーは、2018年11月18日~21日に開催される第8回シリコン材料の科学と技術フォーラム2018(岡山大学創立五十周年記念館)に参加いたします。
会場：岡山大学創立五十周年記念館
講演タイトル：[Development of Ga2O3 vertical trench SBDs and FETs]
発表内容：『酸化ガリウムトレンチ型SBDおよびFETの開発動向について』
詳細は公式HPよりご確認ください。公式HP[http://www.ec.okayama-u.ac.jp/~dm/siforum/kaisai.html]